中商情报网讯：光刻胶又称光致抗蚀剂，是指经过紫外光、电子束、离子束、X射线等的照耀或辐射，其溶解度产生显着的改变的耐蚀剂刻薄膜资料，是半导体制作中运用的中心电子资料之一。跟着晶圆制作规划继续提高，我国有望接受半导体光刻胶工业链转移。
现在，全球光刻胶商场已达到百亿美元规划，商场空间宽广。我国光刻胶工业链逐步完善，且跟着下流需求的逐步扩展，光刻胶商场规划显着地增加。中商工业研究院发布的《2024-2029全球及我国光刻胶和光刻胶辅助资料职业开展现状调研及出资远景剖析陈述》显现，2022年我国光刻胶商场规划约为98.6亿元，同比增加5.68%，2023年约为109.2亿元。中商工业研究院剖析师猜测，2024年我国光刻胶商场规划可达114.4亿元。
光刻胶的应用领域主要为半导体工业、面板工业和PCB工业。从细分商场来看，在半导体光刻胶商场，因为技术上的含金量最高，商场主要由JSR、东京应化、信越、杜邦、富士等转瞬巨子独占。详细如图所示：
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